Influência dos parâmetros de processo na deposição de nitreto de titânio por plasma em gaiola catódica

Autores Daudt, Natalia de Freitas
Orientador

Alves Júnior, Clodomiro

Editor

Universidade Federal do Rio Grande do Norte

Data

2012-02-27

Palavras-chave

Gaiola catódica

Filmes finos de TiN

Deposição por plasma

Espectroscopia de emissão óptica

Propriedades ópticas

Cathodic cage

TiN thin film

Plasma deposition

Optical emission spectroscopy

Optical properties

Citação
Resumo

Abstract

URI https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/12735
ColeçõesPPGCEM - Mestrado em Ciência e Engenharia de Materiais

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