DEM - Departamento de Engenharia Mecânica
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Navegando DEM - Departamento de Engenharia Mecânica por Autor "Almeida, Edalmy Oliveira de"
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Artigo Caracterização de câmara para pós-descarga de cátodo ôco à baixa pressão(Revista Brasileira de Inovação Tecnologica em Saúde, 2015) Santos, Edson José da Costa; Almeida, Edalmy Oliveira de; Silva, Bruno Felipe Costa da; Guerra, Paulo Victor de Azevedo; Hékis, Hélio Roberto; Coutinho, Karilany Dantas; Alves Júnior, Clodomiro; Guerra Neto, Custódio Leopoldino de BritoMuitas aplicações de plasma exigem que a descarga seja produzida distante da superfície a ser processada, evitando assim danos causados pelo bombardeamento e/ou radiação do plasma. Nesse regime de pós-descarga várias aplicações em materiais termicamente sensíveis como tecidos vivos e polímeros podem ser utilizadas. O conhecimento das características da descarga elétrica (espécies opticamente ativas e composição química do plasma) é essencial para eficiência e controle do tratamento. Este trabalho é dedicado à caracterização da pós-descarga DC produzida em cátodo oco cilíndrico de titânio usando simultaneamente a espectroscopia de emissão óptica e um espectrômetro de massa quadrupolar. Os parâmetros de corrente elétrica, pressão na câmara e fluxo de argônio na descarga Ar/N2 são mantidos constantes em 0,4 A; 0,045 Pa e 6 sccm, respectivamente. A evolução das espécies ativas do plasma foi analisada por espectroscopia de emissão óptica e espectrometria de massa quadrupolar, simultaneamente, quando se variou o fluxo de nitrogênio entre 1 e 6 sccm. Foi observado que adição de nitrogênio produziu uma queda linear na intensidade de emissão óptica dos picos de argônio e aumento linear da intensidade dos picos do primeiro e segundo sistema positivo de N2. As principais espécies iônicas encontradas por espectrometria de massa quadrupolar foram de Ar+ e N2+. Foi possível correlacionar os resultados obtidos por espectroscopia de emissão ótica e espectrometria de massa. A razão das intensidades de emissão ótica de N2(1 +) mostrou-se diretamente proporcional a pressão parcial de N2 na pós-descarga de cátodo ocoArtigo Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco(Revista Brasileira de Inovação Tecnologica em Saúde, 2015) Silva, Bruno Felipe Costa da; Santos, Edson José da Costa; Almeida, Edalmy Oliveira de; Guerra, Paulo Victor de Azevedo; Hékis, Hélio Roberto; Coutinho, Karilany Dantas; Alves Júnior, Clodomiro; Guerra Neto, Custódio Leopoldino de BritoO Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio no catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnostico na pós-descarga e os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposição, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das espécies de argônio com a introdução de gás hidrogênio