Deposição de A/N por sputtering não reativo

Autores		Damasceno, Eduardo Moreira
Orientador		Feitosa, Carlos Chesman de Araújo
Editor		Universidade Federal do Rio Grande do Norte
Data		2011-01-27
Palavras-chave		Sputtering Nanofilmes Nitreto de alumínio Sputtering Nanofilms Aluminum nitride
Citação		DAMASCENO, Eduardo Moreira. Deposição de A/N por sputtering não reativo. 2011. 92 f. Dissertação (Mestrado em Física da Matéria Condensada; Astrofísica e Cosmologia; Física da Ionosfera) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Natal, 2011.
Resumo
Abstract
URI		https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/16566

Coleções	PPGFIS - Mestrado em Física

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