Caracterização do efeito da corrente e temperatura na estequiometria dos filmes finos de TiN depositados por Gaiola catódica e Magnetron sputtering
Autores | Nascimento, Igor Oliveira | |
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Orientador | Costa, Thercio Henrique de Carvalho | |
Data | 2017-06-23 | |
Palavras-chave | Gaiola catódica Magnetron sputtering Filmes finos de TiN Deposição por plasma | |
Citação | ||
Resumo | ||
Abstract | ||
URI | https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/23953 |
Coleções | PPGEM - Doutorado em Engenharia Mecânica |
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