Caracterização do efeito da corrente e temperatura na estequiometria dos filmes finos de TiN depositados por Gaiola catódica e Magnetron sputtering

Autores Nascimento, Igor Oliveira
Orientador

Costa, Thercio Henrique de Carvalho

Data

2017-06-23

Palavras-chave

Gaiola catódica

Magnetron sputtering

Filmes finos de TiN

Deposição por plasma

Citação
Resumo

Abstract

URI https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/23953
ColeçõesPPGEM - Doutorado em Engenharia Mecânica

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