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Título: Diagnóstico de plasma de cátodo oco: análise da ação de plasma de argônio e Ar-H2 para a deposição de filmes finos de titânio em pós-descarga
Autor(es): Silva, Bruno Felipe Costa da
Palavras-chave: Plasma. Cátodo-oco. Deposição. Filmes finos. Espectroscopia de emissão óptica;Plasma. Cathode-hollow. Thin films. Optical Emission Spectroscopy
Data do documento: 5-Jul-2013
Editor: Universidade Federal do Rio Grande do Norte
Citação: SILVA, Bruno Felipe Costa da. Diagnóstico de plasma de cátodo oco: análise da ação de plasma de argônio e Ar-H2 para a deposição de filmes finos de titânio em pós-descarga. 2013. 65 f. Dissertação (Mestrado em Tecnologia de Materiais; Projetos Mecânicos; Termociências) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Natal, 2013.
Resumo: Plasma DC hollow cathode has been used for film deposition by sputtering with release of neutral atoms from the cathode. The DC Plasma Ar-H2 hollow cathode currently used in the industry has proven to be effective in cleaning surfaces and thin film deposition when compared to argon plasma. When we wish to avoid the effects of ion bombardment on the substrate discharge, it uses the post-discharge region. Were generated by discharge plasma of argon and hydrogen hollow cathode deposition of thin films of titanium on glass substrate. The optical emission spectroscopy was used for the post-discharge diagnosis. The films formed were analyzed by mechanical profilometry technique. It was observed that in the spectrum of the excitation lines of argon occurred species. There are variations in the rate of deposition of titanium on the glass substrate for different process parameters such as deposition time, distance and discharge working gases. It was noted an increase in intensity of the lines of argon compared with the lines of titanium. Deposition with argon and hydrogen in glass sample observed a higher rate deposition of titanium as more closer the sample was in the discharge
metadata.dc.description.resumo: O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes através de sputtering com liberação de átomos neutros do cátodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato, utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio em catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnóstico na pós-descarga. Os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observou-se que no espectro das linhas de argônio ocorreu excitação de espécies. Verificaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo como: tempo de deposição, distância da descarga e gases de trabalho. Contatou-se um aumento da intensidade das linhas de argônio quando comparadas com as linhas de titânio. Para deposição com Argônio e hidrogênio em amostra de vidro observou uma maior taxa deposição de titânio quanto mais próxima a amostra se encontrava da descarga
URI: http://repositorio.ufrn.br:8080/jspui/handle/123456789/15706
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