Please use this identifier to cite or link to this item: https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/18578
Title: Obtenção e caracterização de filmes SnO2 depositados em vidro borosilicato por silk-screen modificado: SnCl2.2H2O como precursor
Authors: Noronha, José Fernando Valverde
Keywords: Filme TCO;Silk-screen;Vidro borosilicato;Planejamento fatorial;Célula solar;TCO film;Silk-screen;Borosilicato s glass;Factorial Project;Solar cell
Issue Date: 24-Aug-2007
Publisher: Universidade Federal do Rio Grande do Norte
Citation: NORONHA, José Fernando Valverde. Obtenção e caracterização de filmes SnO2 depositados em vidro borosilicato por silk-screen modificado: SnCl2.2H2O como precursor. 2007. 71 f. Dissertação (Mestrado em Tecnologia de Materiais; Projetos Mecânicos; Termociências) - Universidade Federal do Rio Grande do Norte, Natal, 2007.
Portuguese Abstract: O presente trabalho tem como objetivo investigar as características de filmes de SnO2 depositados em substrato de vidro borosilicato por um processo de silk-screen modificado para obtenção de espessura fina compatível com a aplicação em células solares policristalinas de baixo custo. O filme de SnO2 é um dos mais apropriados para obtenção de vidro TCO (transparent conductive oxide) para uso em células solares devido a sua baixa resistividade elétrica e alta transmitância, sendo quimicamente inerte, mecanicamente duro e tem resistência a altas temperaturas, o que facilita então a calcinação das amostras entre 500º C a 550º C. Os filmes foram obtidos a partir de uma solução precursora básica, preparada pela dissolução de SnCl2.2H2O em Etanol (99,5 %). Foi realizado um planejamento fatorial 2(3-1) para analisar a influência dos parâmetros concentração da solução precursora (CETN), temperatura de calcinação (TC) e taxa de aquecimento (tX) na calcinação, sendo a concentração CETN o parâmetro que apresentou maior efeito sobre os parâmetros de respostas investigados: espessura do filme (ω), resistividade de superfície (ρ) e a transmitância relativa (θ). Foi possível obter com a metodologia utilizada, filmes com espessuras da ordem de 1 Nm com resistividade de superfície de 10 / e transmitância relativa entre 70 e 80 %.
URI: https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/18578
Appears in Collections:PPGEM - Mestrado em Engenharia Mecânica

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
JoseFernandoVN.pdf1,67 MBAdobe PDFThumbnail
View/Open


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.