Limpeza a plasma para melhorar a adesão superficial de filmes de óxidos de titânio

dc.contributor.authorSilva, Marco Aurélio Medeiros da
dc.contributor.authorCoutinho, Karilany Dantas
dc.contributor.authorWanderley, Caroline Dantas Vilar
dc.contributor.authorGuerra, Paulo Victor de Azevedo
dc.date.accessioned2020-07-15T14:45:58Z
dc.date.available2020-07-15T14:45:58Z
dc.date.issued2013
dc.description.abstractSurface modification requires a very clean substrate to increase surface energy and improve adherence of the layer formed on the substrate. Techniques with plasma as the energy source are increasingly being employed. This study used plasma produced in hollow cathode discharge in different atmospheres in order to study its influence on depassivation of the titanium surface. Six 10 x10 x 1 mm. Ti plates (grade II) were used. These samples were divided into three groups for plasma cleaning in hollow cathode in an atmosphere of Air, H2 and Air/H2 (50-50%) at a pressure of around 0.7 mbar and temperature of 200°C for 20 and 60 minutes, followed by plasma oxidation at 500°C for 1 hour, with 10% O2 content at a pressure of 2.2 mbar. After oxidation, the samples were assessed by analyzing the contact angle using the sessile drop technique (wettability), x-ray diffraction (XRD) analysis and surface roughnesspt_BR
dc.description.resumoO tratamento para modificação superficial requer um substrato com alto grau de limpeza, a fim de promover um aumento da energia superficial e melhorar a adesão da camada formada ao substrato. Técnicas que estão em crescente uso possuem geralmente o plasma como fonte energética. Nesse trabalho, utilizou-se o plasma produzido em descarga por cátodo oco, com diferentes atmosferas, a fim de estudar a sua influência na despassivação da superfície de titânio. Foram utilizadas 06 placas de Ti cp (grau II), de tamanho 10 x 10 x 1 mm. Estas amostras foram divididas em três grupos para limpeza a plasma em catodo oco com atmosfera de Ar, H2 e Ar/H2 (50-50%) a pressão em torno de 0,7 mbar e temperatura de 200°C nos tempos de 20 e 60 minutos e seguido uma condição de oxidação a plasma a 500oC por 1 hora, com teor 10 % de O2 numa pressão de 2,2 mbar. Após oxidação as amostras foram submetidas à avaliação através de análise de ângulo de contato pela técnica da gota séssil (molhabilidade), análise por difração de raios-X (DRX) e rugosidadept_BR
dc.identifier.citationSILVA, M.A.M.; COUTINHO, K.D.; GUERRA, P.V.A; WANDERLEY, C.D.V.. Limpeza a plasma para melhorar a adesão superficial de filmes de óxidos de titânio. Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde, v. 1, p. 38, 2013. Disponível em: https://periodicos.ufrn.br/reb/article/view/3392. Acesso em: 14 jul. 2020.https://doi.org/10.18816/r-bits.v2i4.3392pt_BR
dc.identifier.doi10.18816/r-bits.v2i4.3392
dc.identifier.issn2236-1103
dc.identifier.urihttps://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29647
dc.languagept_BRpt_BR
dc.publisherRevista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúdept_BR
dc.subjectLimpeza a plasmapt_BR
dc.subjectImplante dentalpt_BR
dc.subjectOxidaçãopt_BR
dc.subjectDescontaminação de Tipt_BR
dc.titleLimpeza a plasma para melhorar a adesão superficial de filmes de óxidos de titâniopt_BR
dc.typearticlept_BR

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