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Title: Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco
Other Titles: Study of deposition of thin films in plasmas Ar/Ar-H2 in regions of hollow cathode post-discharge
Authors: Silva, Bruno Felipe Costa da
Santos, Edson José da Costa
Almeida, Edalmy Oliveira de
Guerra, Paulo Victor de Azevedo
Hékis, Hélio Roberto
Coutinho, Karilany Dantas
Alves Júnior, Clodomiro
Guerra Neto, Custódio Leopoldino de Brito
Keywords: Pós-descarga;Espectroscopia de emissão óptica;Espectrometria de massa quadrupolar
Issue Date: 2015
Publisher: Revista Brasileira de Inovação Tecnologica em Saúde
Citation: SILVA, B. F. C.; SANTOS, E. J. C.; ALMEIDA, E.O. ; GUERRA, P.V.A.; HEKIS, H. R.; COUTINHO, K. D.; ALVES JUNIOR, C.; GUERRA NETO, C. L. B.. Estudo de deposição de filmes finos em plasmas de Ar/Ar-H2 em regiões de pós-descarga de catodo oco. Revista Brasileira de Inovação Tecnológica em Saúde, v. 5, p. 1, 2015. Disponível em: https://periodicos.ufrn.br/reb/article/view/7253. Acesso em: 10 jul. 2020. https://doi.org/10.18816/r-bits.v5i2.7253
Portuguese Abstract: O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposição de filmes finos através de sputtering com liberação de átomos neutros do catodo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na indústria tem demonstrado ser mais eficiente na limpeza de superfícies e deposição de filmes finos quando comparado ao plasma de argônio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento iônico da descarga no substrato utiliza-se a região de pós-descarga. Geraram-se descargas por plasma de argônio e hidrogênio no catodo oco para deposição de filmes finos de titânio em substrato de vidro. A espectroscopia de emissão ótica foi empregada para o diagnostico na pós-descarga e os filmes formados foram analisados através da técnica de perfilometria mecânica. Observaram-se variações para a taxa de deposição do titânio sobre o substrato de vidro para diferentes parâmetros do processo, tempo de deposição, distancia da descarga, e gases de trabalho. Verificou-se um aumento da intensidade relativa das espécies de argônio com a introdução de gás hidrogênio
Abstract: Plasma DC hollow cathode has been used for the deposition of thin films by sputtering with release of neutral atoms from the cathode. Hollow-cathode plasma of Ar-H2 currently used in the industry has proven to be more efficient in cleaning surfaces and thin film deposition when compared to argon plasma. When we wish to avoid the effects of ion bombardment of the substrate using discharge to post-discharge region. Were generated by discharge plasma of argon and hydrogen in hollow cathode deposition of thin films of titanium on glass substrate. The optical emission spectroscopy was used for diagnosis in post-discharge and the films formed were analyzed using the technique of mechanical profilometry. A variation in the rate of deposition of titanium on the glass substrate for different process parameters, the deposition time, the discharge distance, and working gases. There was an increase in the relative intensity of the species of argon with the introduction of hydrogen gas.
URI: https://repositorio.ufrn.br/jspui/handle/123456789/29544
ISSN: 2236-1103
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